| * 품명 : SURFSCAN SP3 - 미세파티클 측정용 * 용도 - Non Pattern Wafer 표면의 Particle을 계측하여 반도체공정장비의 청정도 수준을 확인. - 반도체공정 Process 진행 전, 후의 Particle을 분석하여 반도체 Chip의 수율 개선에 이용. * 구성 및 기능 - Handler, Base Cabinet, Image Computer Rack, Blower로 구성. - Handler 기능 : 용기에 저장 된 Wafer를 Base Cabinet으로 이송 및 반송. - Base Cabinet 기능 : Handler로부터 이송받은 Wafer를 Laser를 이용하여 표면에 부착 된 Particle을 검출하여 분석, 사용자에게 UI를 통해 표현하여 전달. - Image Computer 기능 : 측정 된 Particle 측정 결과에 대한 심화분석. - Blower : 설비 내부의 환경유지, 열방출을 위한 Exhaust 장치. * 작동원리 1. 용기에 있는 Wafer를 Vacuum Transfer Arm을 통해 Base Cabinet의 Stage로 전송. 2. Stage를 고속회전시키면서 한 방향의 축으로 이동, 이 때 Wafer 표면에 Laser를 주사. 3. Wafer 표면의 Particle에 Laser가 주사되면 산란광이 발생하고 이 산란되는 광을 수집, 분석하여 사용자가 원하는 정보를 제공하게 됨. ◆ Specification 1. 생산량 : 고감도 Mode 29WPH / 표준 Mode 57WHP / 고속 Mode 100WHP 2. 측정범위 : 고감도 Mode 26nm / 표준 Mode 30nm / 고속 Mode 34nm ◆ Utilirty 1. Gas : Air, Vacuum 2. Power : 208 - 240V, 1Phese, 50-60Hz, 24A |
| daesangs | 2014-05-23 오전 10:14:10 |
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| 운영자 | 2014-05-26 오전 11:02:25 |
상기 물품이 빛(자외선·가시광선·적외선을 사용하는 것)을 이용하여 Particle을 분석하는 경우 HSK 9027.50-9000에 분류될 것으로 판단이 됩니다. 그러나 자외선·가시광선·적외선 이외의 빛을 사용하여 Particle을 분석하는 경우 HSK 9027.80-2090에 해당할 것으로 판단됩니다.  
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