부식성시험기 또는 부식성측정기
다음 각 호의 어느 하나에 해당하는 것으로 한정한다.
1. 전기화학적 측정 또는 분극곡선 측정이 가능한 것으로서 측정 주파수 범위가 10마이크로헤르츠(μ㎐) 이상인 것
2. 복합 부식시험이 가능한 것으로서 건조, 습도, 염수, 온도, 이산화탄소 농도, 광조사(光照射) 또는 결로(結露) 조건 중 2가지 이상의 조건을 설정할 수 있는 것
열진동복합시험기 (Thermal & Vibration Tester)
다음 각 호의 어느 하나에 해당하는 것으로 한정한다.
1. 챔버(Chamber) 내의 온도가 섭씨 ±3도 이하인 것
2. 사인(Sine) 또는 랜덤(Random) 진동시험이 가능한 것
8421-19
원심분리기 또는 핏치(Pitch) 원심분리기
다음 각 호의 어느 하나에 해당하는 것으로 한정한다.
1. 미생물의 균체회수, 혈액분리 및 제제?단백질 농축에 필요한 중력가속도 생성이 가능한 것
2. 회전속도를 분당 20회 단위로 설정이 가능한 것
3. 섭씨 영하 20도 이상 영상 40도까지 1도 단위로 온도 설정이 가능한 것
4. 최대 회전속도가 분당 5만 회인 것
5. 시간당 50리터(ℓ)의 원심분리가 가능한 것
6. 핏치(Pitch)의 비중별 분리, 불순물 분리, 필요한 중력가속도 생성이 가능한 것
7. 섭씨 20도 이상 400도까지 1도 단위로 온도설정이 가능한 것
8. 전기저항 가열 또는 매질(媒質)가열방법을 사용한 온도조절 방식인 것
9. 연속적인 피드(Feed) 주입 및 슬러지(Sludge) 배출을 통한 연속조업이 가능한 것
10. 시간당 1톤(ton) 이상의 원액처리가 가능한 것
11. 자체 제자리 세정(CIP, Cleaning In Place) 조업이 가능한 것
이온밀링장치(Ion Milling System)
다음 각 호의 어느 하나에 해당하는 것으로 한정한다.
1. 이온빔(Ion Beam)을 이용하여 반도체 웨이퍼(Wafer) 또는 시편(試片)을 가공할 수 있는 것
2. 가속전압이 1킬로볼트(kV) 이상 6킬로볼트 이하 범위를 포함하고 있으며, 아르곤 이온(Ar Ion) 건(Gun) 또는 아르곤 가스(Ar Gas)를 이용한 장치인 것
3. 투과전자현미경 또는 주사전자현미경 분석을 위한 박편(薄片) 및 단면 시료 제작이 가능한 것
항온항습기(항온기, 항습기, 항습배양기를 포함한다)
다음 각 호의 어느 하나에 해당하는 것으로 한정한다.
1. 온도 정도가 ±2.0도 이하이거나 습도 정도가 ±5퍼센트(%) 이하인 것
2. 온도분포가 최대 사용온도 섭씨 100도 이상 또는 최소 사용온도가 섭씨 영하 40도 이하인 것
3. 온도범위가 섭씨 영하 40도 이상 섭씨 180도 이하인 것으로서 습도의 범위가 10퍼센트(%) 이상 98퍼센트(%) 이하인 것
4. 70분 내에 섭씨 영하 40도에서 섭씨 150도까지 온도를 상승시킬 수 있는 것
5. 60분 내에 섭씨 300도까지 온도를 상승시킬 수 있는 것으로서 섭씨 20도 이상 섭씨 300도 이하의 범위에서 온도조절이 가능한 것
6. 전압 공급기의 용량이 3상(Phase) 200볼트(V)인 것
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