| 내 용 |
[주 문]
심판청구를 기각합니다.
[이 유]
1. 처분개요
청구인은 2004.5.19. 수입신고번호 ○○○-04-○○○호로 FIB/SEM dual beam(규격 N0VA200 ; 이하 "쟁점물품"이라 한다)을 '반도체 웨이퍼 또는 레티클의 취급과 이송용으로 특별히 고안된 장치가 부착된 일렉트론빔 현미경'으로 보아 HSK 9012.10-1010호(양허세율 무세)로 신고하여 처분청이 이를 수리하였다. 처분청은 2005.7.21. 관세청장의 처분청 행정감사에서 쟁점물품은 반도체 웨이퍼 또는 레티클의 취급과 이송용으로 특별히 고안된 장치가 부착되지 아니한 기기이므로 HSK 9012.10-1090호(기본세율 8%)에 품목분류된다는 지적에 따라 청구인에게 과세전통지를 거친 후, 2006.2.20. 품목분류 적용착오에 따른 관세 ○○○원, 부가가치세 ○○○원, 가산세 ○○원, 합계 ○○○원의 부족세액에 대하여 경정고지하였다. 청구인은 이에 불복하여 2006.5.16. 심판청구를 제기하였다.
2. 청구인 주장 및 처분청 의견
가. 청구인 주장
쟁점물품은 반도체 웨이퍼·소자상의 불량 회로를 milling(깎기), cutting (자르기), deposition(붙임) 등의 가공작업을 통하여 회로를 수정하는 HS 8456호에 분류되는 Focused Ion Beam(이하 "FIB"라 한다)기능과 전자빔을 웨이퍼의 회로부분에 조사하여 발생한 2차 전자이온을 detector로 검출하여 image를 높은 해상도로 하여 회로부분을 관찰할 수 있는 HS 9012호에 분류되는 Scanning Electron Microscope(이하 "SEM"이라 한다)기능을 함께 수행할 수 있도록 고안된 장비로서, FIB single beam으로 가공작업을 할 경우 저해상도로 인하여 효율적인 가공작업이 곤란하여 고해상도의 SEM기능을 추가한 것으로서 주기능·사용빈도·구조·비교단가 등을 종합적으로 판단하면 SEM기능은 보조적 기능에 불과하고 쟁점물품의 본질적 특성은 반도체 웨이퍼나 소자상의 회로 불량부분의 가공작업을 통하여 수정하는 가공공작기계인 FEB기능에 있으므로 관세율표 해석에 관한 통칙(이하 "통칙"이라 한다)3 (나)호 및 제84류 주(note) 7호에 따라 쟁점물품의 주용도인 '각종재료의 가공공작기계'가 분류되는 HSK 8456.99-1000호(양허세율 무세)에 분류되어야 한다. 따라서 처분청이 쟁점물품에 대한 품목분류 적용착오를 이유로 경정한 이 건 처분은 취소되어야 한다.
나. 처분청 의견
쟁점물품은 HS 8546호에 분류되는 FIB기능과 HS 9012호에 분류되는 SEM기능을 함께 수행할 수 있도록 고안된 장비로서 FIB기능과 SEM기능 중 하나에 본질적인 특성이 있다고 보기 어려우므로 통칙3 (다)호 규정에 의거 최종호인 HS 9012호(기타 현미경)에 분류되며, 세분류에 있어서는 반도체 웨이퍼 또는 레티클의 취급과 이송용으로 특별히 고안된 장치가 부착되어 있지 아니하므로 HSK 9012.10-1090호(기본세율 8%)에 분류된다. 따라서 처분청이 품목분류 적용착오를 이유로 경정한 이 건 처분은 정당하다.
3. 심리 및 판단
가. 쟁 점
쟁점물품의 품목분류를 "각종재료의 가공공작기계"로 보아 HS 8456호에 분류할 것인지, 아니면 "일렉트론 빔 현미경"으로 보아 HS 9012호에 분류할 것인지, 아니면 "기타의 측정 또는 검사용의 기기"로 보아 HS 9031호에 분류할 것인지 여부
나. 관련법령
(1) 관세법 별표 관세율표(법률 제8136호, 2006.12.30. 개정되기 이전의 것)
HS 8456 각종재료의 가공공작기계(레이져 또는 기타 광선·광자빔·초음파·방전·전기화학·전자빔·이온빔·플라스마아크 방식에 의하여 재료의 일부를 제거하여 가공하는 것에 한한다)
HS 8456.99 기타
HS 8456.99-1000 마스크와 레티클을 처리 또는 수리하기 위한 포커스드 이온빔 밀링기, 기본 8%, 양허 무세
HS 8456.99-9000 기타, 기본 8%, 양허 13%
HS 9012 광학현미경 외의 현미경과 회절기기
HS 9012.10-10 현미경
HS 9012.10-1010 일렉트론 빔 현미경(반도체 웨이퍼 또는 레티클의 취급과 이송용으로 특별히 고안된 장치가 부착된 것에 한한다), 기본 8%, 양허 무세
HS 9012.10-1090 기타, 기본 8%
HS 9031 기타의 측정 또는 검사용의 기기(이 류의 다른 호에 분류되지 아니한 것에 한한다)와 윤곽투영기
HS 9031.80 기타의 기기
HS 9031.80-9091 반도체 제조용의 것, 기본 8%
HS 9031.80-9099 기타, 기본 8%, 양허 8%
(2) HS 관세율표 해설서
HS 제8456호
이 호의 공작기계는 각종 재료의 성형 또는 표면가공용의 기계이다. 이러한 공작기계는 다음과 같은 3가지 주요 요건을 갖추어져야만 한다.
(i) 이러한 공작기계는 재료를 제거하는 방법으로 가공하여야 한다.
(ii) 이러한 공작기계는 약정된 공구(conventional tools)를 갖춘 공작 기계에 의하여 이루어지는 작업을 수행하여야 한다.
(ⅲ) 이러한 공작기계는 다음의 7가지 공정중의 하나를 사용하여야 한다. 레이저 또는 기타광선과 광자빔·초음파·방전·전기화학·전자빔·이온빔 또는 프라스마아크방식
(A)~(E) (생략)
(F) 이온빔 방식에 의하여 가공하는 공작기계
이러한 공작기계의 빔은 레이저 빔의 경우에서와 같이 impulse에 의한 것이 아니고 연속동작에 의하여 작업을 한다.
HS 제9012호
이 호에는 다음의 것을 포함한다.
(A) 전자현미경 : 광선 대신에 전자의 비임(beam)이 사용되는 점에서 광학현미경과는 다르다.
전자현미경의 표준형은 다음의 장치가 일체로서 동일프레임에 내장되어 조립된 것이다.
(1) 전자를 방출하고 가속하는 장치(전자총으로 불리운다)
(2) 정전식 또는 전자식의 '렌즈'(전류를 이송하는 대전판 또는 코일)로 구성되는 장치(보통 현미경의 광학장치부분품을 작동하는 것), 이들은 집광기·대물경 및 투영기로서 작용한다. 또한 대물경과 투영기 사이에 소위 Field '렌즈' 라고 부르는 것이 하나 더 있으며, 이것은 주사되는 대물의 위치를 변경시키지 않고 확대한도가 변화되도록 해준다.
(3) 시료재물대(載物臺)
(4) 전자관내에 진공을 유지시키는 진공펌프 : 이것은 때때로 기기에 연결시키는 유니트가 자장되어 있다.
(5) 상을 형광스크린에 반영시켜 육안으로 관측 및 사진으로 기록하기 위한 기구
HS 제9031호
이 호에는 윤곽투영기 이외에 측정 또는 검사용 기기를 포함한다(광학식의 여부 불문). 다만, 이 그룹에는 제9001호 내지 제9012호·제9015호 내지 제9030호의 기기는 제외된다는 것을 유의해야 한다.
다. 사실관계 및 판단
(1) 쟁점물품(FIB/SEM dual beam)은 반도체 웨이퍼 등 이온빔을 조사하여 시료의 표면과 표면 내부(sub-surface)의 구조를 이미지화(7nm)하거나 시료를 밀링하는 Focused lon Beam Column과 전자빔을 주사하여 고해상도(2nm)의 이미지를 관찰하는 Scanning Electron Microscope Column 및 시료의 결함과 불량 부분을 교정하기 위하여 주입하는 가스주입시스템(Gas Injection System ; 이하 "GIS"라 한다)이 일체형으로 결합된 기기로서 반도체 웨이퍼나 소자상의 회로 구조의 특성화(characterization), 분석, 결함 교정 등의 용도에 주로 사용된다.
(2) 쟁점물품에 대하여 관세청 품목분류위원회는 FIB 기능과 SEM 기능 중 어느 하나에 본질적인 특성이 있다고 보기 어려우므로 통칙 3 (다)호의 규정에 의거 HS 9012.10-1090호에 분류된다고 결정(심사정책과-100030, 2006.1.26.)한 바 있으며, 미국은 쟁점물품은 HS 9012.10호, FIB와 SEM이 결합된 Dual beam system에 반도체 웨이퍼 이송장치가 결합된 Altura 835 기기에 대하여는 HS 9031.80호에 각각 분류하고 있음이 제출된 자료에 의해 확인된다.
(3) 관세율표 해석에 관한 통칙에 의하면 품목분류는 각 호의 용어 및 관련 부 또는 류의 주(note)에 의하여 결정하되 이러한 각호의 용어 또는 주에 의하여 품목분류가 곤란한 경우 통칙 2호 내지 제6호의 규정을 순차적으로 적용하며, 동일한 물품이 둘이상의 호에 분류되는 것으로 볼 수 있는 경우로서 통칙 3호를 적용함에 있어서는 협의의 표현 호와 본질적 특성 부여 호 및 최종 호 분류원칙을 순차적으로 적용하도록 규정하고 있으며, 관세율표에는 '이온빔 방식 등에 의하여 재료를 제거하는 각종재료의 가공공작기계'는 HS 8456호, '광학현미경 외의 현미경'은 HS 9012호, '90류의 다른 호에 분류되지 아니하는 기타의 측정 또는 검사용 기기'는 HS 9031호에 분류하고, HS 90류에 분류되는 물품은 제16부(HS 84, 85류)에서 제외[16부 주 1(타)호]되며, '하나의 기계가 각종의 개별기기로 구성되어 있는 경우에도 이들의 제84류 또는 제85류 중의 어느 호에 명백하게 규정된 기능을 함께 수행하기 위한 것일 때에는 그 전부를 그 기능에 따라 해당하는 호에 분류'하도록 한 원칙을 제90류에도 적용(90류 주 3호)하도록 규정하고 있으며, 관세율표 해설서 제9031호에는 '이 그룹에는 제9001호 내지 제9012호·제9015호 내지 제9030호의 기기는 제외된다는 것을 유의해야 한다.'라고 규정하고 있다.
(4) 청구인은 쟁점물품의 본질적 특성이 FIB기능에 있으므로 HS 8456호에 분류되어야 한다고 주장하고 있고, 처분청은 FIB 또는 SEM 중 어느 하나에 본질적인 특성이 있다고 보기 곤란하므로 통칙3 (다)호의 최종호 분류규정에 의거 HS 9012호에 분류되어야 한다고 주장하고 있어 이에 대하여 살펴본다.
쟁점물품의 품목분류 가능한 세번으로 HS 8456호와 9012호 및 9031호(심판원 직권 검토)가 경합하고 있으나, HS 90류에 분류되는 물품은 16부(HS 84류 내지 85류)에서 제외하도록 한 규정에 따라 쟁점물품이 우선 HS 9012호 또는 9031호에 분류되는지 여부를 보면, Focused Ion Beam Column과 Scanning Electron Microscope Column이 일체형으로 결합된 쟁점물품은 주사된 전자빔에 의하여 시료의 다층막에 대한 각막질의 구조·두께·불량 등을 분석할 수 있도록 고배율·고해상도(2nm)의 이미지를 제공하는 HS 9012호에 분류되는 전자현미경의 기능을 수행하는 SEM column과 시료 표면내부(sub-surface)의 구조 분석을 위하여 시료를 밀링하거나 GIS와 연결하여 시료의 결함과 불량부분을 교정하는 기능을 수행하긴 하나 전자빔 대신 갈륨의 이온빔을 사용하는 차이 외에는 전자현미경의 구조와 작동원리가 유사한 기기로서 SEM Column과 마찬가지로 고배율·고해상도의 이미지를 제공하는 기능을 수행하는 FIB Column이 일체형으로 결합되어 전체로서 HS 9012호에 규정된 현미경의 기능을 수행하는 functional units에 해당되므로 관세율표 해석에 관한 통칙 1호에 따라 HS 9012.10호에 분류되며, 세분류에 있어서는 "반도체 웨이퍼 또는 레티클의 취급과 이송용으로 특별히 고안된 장치가 부착"되어 있지 아니하므로 HSK 9012.10-1090호(기본세율 8%)에 분류된다. 위 (가)에서 본 바와 같이 쟁점물품은 HS 9012호에 분류되므로 HS 8456호 및 9031호에는 분류될 수 없다.
(5) 따라서, 쟁점물품은 기타의 현미경으로서 HSK 9012.10-1090호(기본세율 8%)에 분류되는 물품이므로 처분청이 쟁점물품의 품목분류 적용착오를 이유로 경정한 이 건 처분은 정당한 것으로 판단된다.
4. 결 론
이 건 심판청구는 심리결과 청구주장이 이유 없으므로 국세기본법 제81조 및 제65조 제1항 제2호에 의하여 주문과 같이 결정한다. |
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